El cautxú de silicona HTV, també conegut com a cautxú de silicona vulcanitzat d'alta temperatura, és un tipus comú de cautxú de silicona que s'utilitza àmpliament a la indústria i a la vida diària. Té les següents característiques:

1. Composició i estructura química
Polímer bàsic:Compost principalment per polidimetilsiloxà (PDMS), la seva cadena principal està formada per àtoms alternatius de silici i oxigen, i els grups laterals són grups orgànics com el metil. Aquesta estructura molecular única dota el cautxú de silicona amb moltes propietats excel·lents.
Sistema de reticulació:Mitjançant l'addició d'agents de reticulació específics, com ara peròxids, s'inicien reaccions de reticulació a altes temperatures, connectant cadenes moleculars de polímers lineals per formar una estructura de xarxa tridimensional, aconseguint així la vulcanització.
2. Característiques de rendiment
Resistència a altes temperatures:Es pot utilitzar durant molt de temps a altes temperatures, generalment suportant temperatures de 200-300 graus . Algunes formulacions especials de cautxú de silicona HTV poden fins i tot mantenir un rendiment estable a temperatures més altes, cosa que la fa adequada per a segellat, aïllament i altres aplicacions en entorns d'alta temperatura.
Resistència a baixa temperatura:Té una bona-elasticitat a baixa temperatura i pot mantenir un cert grau de flexibilitat i elasticitat en entorns de baixa-temperatura. Es pot utilitzar normalment a temperatures de -50 graus o fins i tot inferiors, i no és propens a la fragilitat, l'enduriment i altres fenòmens.
Excel·lent resistència a la intempèrie:Té una forta resistència als factors ambientals com la radiació ultraviolada i l'ozó. Sota una exposició a l'exterior-a llarg termini, les seves propietats físiques i químiques canvien molt poc i no és fàcil d'envellir ni de trencar-se, amb una llarga vida útil.
Rendiment d'aïllament elèctric:Té un excel·lent rendiment d'aïllament elèctric, amb poca variació en la constant dielèctrica i la tangent de pèrdua dielèctrica en un ampli rang de freqüència i temperatura, i es pot utilitzar per fabricar diversos components d'aïllament elèctric.
Inercia fisiològica:No irritant i no-tòxic per als teixits humans, amb bona compatibilitat amb els teixits humans, es pot utilitzar per fabricar subministraments mèdics com catèters mèdics, òrgans artificials, etc.
3. Tecnologia de processament
Mescla:Barregeu cautxú en brut, farciments (com el negre de carboni blanc), agents de reticulació, additius, etc. en una màquina de mescla de cautxú per aconseguir una barreja uniforme.
Emmotllament:El material de cautxú mixt es pot modelar en la forma desitjada mitjançant modelat, extrusió, injecció i altres mètodes d'emmotllament. Per exemple, es poden fabricar diverses juntes de segellat, botons, etc. mitjançant l'emmotllament per compressió; L'emmotllament per extrusió pot produir mànegues de goma, tires de segellat, etc; L'emmotllament per injecció és adequat per a la fabricació de peces de precisió amb formes complexes.
Sulfuració:El producte modelat es vulcanitza a altes temperatures (normalment 150-200 graus) per reticular i curar el cautxú, obtenint les propietats físiques i mecàniques finals.
4. Camps d'aplicació
Àmbit aeroespacial:S'utilitza per a la fabricació de segells de motor d'avions, juntes, materials d'aïllament, etc., que poden complir requisits estrictes com ara alta temperatura i alta fiabilitat.
Indústria de l'automoció:Com a component de segellat, mànega del radiador, funda protectora de bugia, etc. al voltant del motor de l'automòbil, pot adaptar-se a entorns durs com ara alta temperatura i contaminació per petroli al compartiment del motor dels automòbils.
Indústria electrònica i elèctrica:produint capes d'aïllament per a cables i cables, materials d'encapsulament per a components electrònics, tecles de teclat, etc., utilitzant el seu aïllament elèctric i bones propietats físiques.
Indústria mèdica:Fabricació de dispositius mèdics com catèters, tubs de drenatge i articulacions artificials, garantint la seva biocompatibilitat i seguretat per al cos humà.
